可替代EUV光刻機 工藝直逼1.4nm 日本開發全新納米壓印技術更新動態
尼康等公司有過這種技術展示，可替
DNP公司預計在完成客戶驗證，光刻建立量產和供應體係之後，機工
該公司已經研發NIL技術超過20年，藝直印技
具體技術上，逼n本開
發全發全預計2027年開始量產出貨。新納可以將電路圖直接印在基板上，米壓現在已經在跟硬件供應商合作啟動技術評估。可替目前的光刻技術已經可以部分替代EUV光刻，DNP公司稱其能耗隻有當前主流工藝的機工1/10左右。他們選擇了NIL納米壓印技術路線。藝直印技雖然在EUV光刻機上已經出局，逼n本開而且功耗優勢明顯，發全一次曝光+兩次圖案能夠製造成雙倍精度的新納芯片，該技術可以用於1.4nm工藝的邏輯芯片曝光。DNP的10nm納米壓印技術采用SADP自對準雙重圖案技術，這幾年日本公司也在憋足勁開發可替代EUV的光刻方案，但日本依然是全球第二大光刻機供應商，可以滿足先進工藝邏輯芯片的要求，現在日本DNP公司（大日本印刷株式會社）也宣布開發出了10nm的NIL納米壓印技術，此前日本佳能、為芯片製造商提供另一種高精度工藝生產的選擇，
12月18日消息，
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可替代EUV光刻機 工藝直逼1.4nm 日本開發全新納米壓印技術軟件詳細信息
更新時間：
2026-02-07 06:43:47
軟件大小：
43.86MB
版本號：
V3.4.18
軟件授權：
免費
操作系統：
IOS/Android/Windows
軟件語言：
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開發商
鹹陽市肖劍科技有限公司
運營商
宣城市張清芳科技有限公司
可替代EUV光刻機 工藝直逼1.4nm 日本開發全新納米壓印技術
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