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三星2nm工藝細節公布:能效提升8% 良品率不足60%

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能效優化8%、星n效提

盡管提升幅度低於業界預測,藝細市場份額70.2%額穩居第一。布能不足全球晶圓代工市場主要由臺積電占據,升良新工藝實現性能提升5%、品率但是星n效提市場占有率僅為7.3%,三星首款采用2nm工藝的藝細SoC為自研Exynos 2600,傳聞當前良品率介於50%-60%。布能不足

升良

升良良品率突破已成為爭奪客戶的品率核心競爭力。

11月18日消息,星n效提雖然三星排在第二,藝細希望通過提高2nm工藝的布能不足良品率以及與利潤豐厚的客戶建立長期業務關係,相差了接近十倍。升良並占據20%的品率市場份額。但標誌著GAA(全環繞柵極)晶體管架構在更先進節點的持續演進。三星電子首次公布2nm工藝量產進展及技術指標:相較3nm製程,該芯片的量產效能將直接驗證三星代工技術實力,

目前,據媒體報道,在兩年內實現盈利,尤其在高難度10nm以下製程中,

三星已經為晶圓代工業務設定新目標,芯片麵積縮減5%。

據悉, 返回