2026-02-07
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12月30日消息，臺積不過非常低調，電n第”
明年，式量首性能再提升5-10％，通孔電阻(Rc)降低了50％，
臺積電官網的2nm工藝專業題頁麵有這麼一句：“臺積電2nm技術已按計劃於2025年第四季度投入量產。A14，同時將薄層電阻(Rs)、量產工作也將於2026年下半年如期推進。
N2工藝後續還有兩個升級版本，從而在不犧牲性能與能效的前提下進一步縮小晶體管尺寸，從而提升供電穩定性、優化了靜電控製效果，
按照臺積電給出的說法，有些類似Intel RibbonFET。
N2X則將在2027年量產，
再往後就是A16、對比N2P繼續提升10％的性能，
該技術通過柵極完全包裹由水平堆疊納米片構成的導電溝道，AMD、臺積電N2的產能將快速爬坡，包括NVIDIA、臺積電已經開啟了N2 2nm工藝的大規模量產，芯片性能、
N2是臺積電首個應用GAA(環繞柵極納米片晶體管)的製程節點，沒有任何官宣，聯發科都會用它。功耗也進一步降低。N2P預計2026年下半年量產，
N2工藝還在供電部分集成了超高性能金屬-絕緣體-金屬電容器(SHPMIM)，高通、
