ASML计划将EUV光源功率提至1000W：2030年每小时晶圆产量可提升50%更新動態
2月24日消息，计划将据媒体报道，光源功率ASML首席技术专家Michael Purvis在接受媒体采访时透露，提至提升研究人员已成功找到将极紫外（EUV）光刻机光源功率从当前的时晶600瓦提升至1000瓦的方法。
这并非实验室里昙花一现的圆产演示，而是计划将一套能够满足客户实际生产环境严苛要求、可稳定运行的光源功率完整系统。
随着光源功率跃升至千瓦级别，提至提升光刻机的时晶产能也将随之实现跨越。据ASML测算，圆产当光源功率提升至1000瓦后，计划将2030年每小时晶圆处理能力可从220片提升至330片，光源功率增幅高达50%。提至提升
更值得关注的时晶是，在产能大幅提升的圆产同时，单片晶圆的制造成本基本保持不变。这意味着，芯片制造商在不增加洁净室面积、不额外采购新设备的前提下，仅通过现有设备的性能升级，就能实现产能的显著跃升。
不过，这一技术何时能够真正落地，目前尚无明确时间表。外界分析认为，ASML未来可能会以升级套件的形式向客户提供光源升级服务，但并非所有型号的EUV光刻机都具备升级条件，具体适配范围仍有待进一步披露。
对于ASML而言，1000瓦显然不是终点。Purvis透露，团队已经在探索将光源功率推向1500瓦甚至2000瓦的可能性。
随着光源功率的持续攀升，EUV光刻机的产能天花板还将被不断推高，为未来更复杂、更庞大的芯片制造需求铺平道路。
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ASML计划将EUV光源功率提至1000W：2030年每小时晶圆产量可提升50%軟件詳細信息
更新時間：
2026-03-02 08:07:04
軟件大小：
27.38MB
版本號：
V6.7.41
軟件授權：
免費
操作系統：
IOS/Android/Windows
軟件語言：
簡體中文
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開發商
鐵嶺市林春玲科技有限公司
運營商
白銀市埃利克克萊普頓科技有限公司
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